顯像管清洗用水可以用EDI超純水設備來生產
顯像管是一種用于顯示電視、計算機和其他電子設備的電子設備。它內部包含了熒光物質和電極。當電流通過電極時，熒光物質會發(fā)出光，并通過反射在熒光物質周圍的熒光屏上來產生圖像。顯像管可以顯示出各種顏色，并具有較高的分辨率和清晰度。
作為一種精密電子部件，顯像管的清潔度對其成像清晰度有很大影響。灰塵、金屬氧化物、固體顆粒雜質等物質一旦污染顯像管，就容易造成顯像管報廢失去功能。因此，在顯像管生產過程中，對其進行嚴格清洗是十分有必要的。采用超純水清洗顯像管有很多好處，超純水成分簡單，基本只含有氫原子和氧原子，不含任何有機物、金屬離子、細菌和微量元素，用來清洗顯像管不會對其造成污染。
EDI超純水設備是專用于進行超純水生產的技術產品，采用了雙級反滲透系統(tǒng)+EDI模塊的處理工藝，出水電阻率可達16 MΩ*cm(25℃)。經過反滲透系統(tǒng)中孔徑小、過濾精度高的反滲透膜過濾后，超純水中的金屬離子、有機物、細菌和微量元素等物質基本都能被充分去除，并且過濾速度快、出水質量穩(wěn)定、無污染物質析出。
EDI模塊是該設備中實現超純水深度脫鹽的核心技術，它的運行連續(xù)穩(wěn)定，不產生任何酸堿廢液，能避免后續(xù)再進行酸堿中和反應處理的麻煩。除此之外，EDI模塊的進水一般是二級反滲透水，水質很好，深度脫鹽后的濃水水質比一級反滲透產水還要好，可以回流到一級反滲透產水箱中。
EDI超純水設備具有操作簡單、出水質量穩(wěn)定、運行能耗低、自動化強的優(yōu)勢，生產出的超純水除了能用于顯像管清洗之外，還能廣泛用于半導體、航空航天業(yè)零部件以及軍事器械清洗等，發(fā)展前景很好。
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編輯：新奇 技術：加菲
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